X射線熒光分析法以及原理信息

X射線熒光分析法:

能量散射X射線熒光光譜法（EDXRF）作為鍍層厚度測量和材料分析的方法，可用來定量和定性分析樣品的元素組成，也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測量。無論是在實驗室還是工業(yè)生產環(huán)境中，這一方法都能勝任，并還可以與現代化設備一起發(fā)揮作用。

X射線熒光分析fa作為一種常用測試方法，有著其突出的優(yōu)勢。它幾乎可以測量所有工藝相關元素，并且工作時無損且不接觸樣品。測量時間一般在數秒鐘內，很少多于一分鐘。通常不需要復制的樣品制備，即可進行快速測量。利用該方法，可以同時測量均質材料及鍍層的厚度和化學成分。不僅如此，X射線熒光分析方法檢測各種類型樣品里的微量有害物質。

原理：

X射線熒光分析基于以下物理現象：樣品材料中的原子由于受到初級X射線轟擊，從而失去內層軌道中的某些電子。失去電子所留下的空穴會被外層電子來填補，在填補的過程中，會產生每個元素的特征X射線熒光。接收器探測到該熒光射線后，便能提供樣品的材料組成等信息。